基本原理
反射光线的重合会导致建设性的或是破坏性的干涉, 如下面的图形所示:
SiO2 200nm, SiO2 458nm. 该干涉包括了薄膜厚度, 折射率(n)和消光系数(k).

FilmExpRemote 包含所有 FilmExpColor 的功能及摇控功能
-遥控方法: 使用ActiveX的Inter-process communication(IPC)
- 支持的开发语言: VC++, VB, Delphi, LabView etc...
# 支持ActiveX interfacer的所有开发语言
- 支持的操作系统:Windows2000, WindowsXP.
- 支持的遥控功能(Supported Remote functions): 实现厚度和颜色测量的所有功能.
光学系统不同也会有所不同

简单快速安装
- 非常简单的硬件及构造
- 外形尺寸尤其小
　

FilmExpColor包含所有FilmExpBasic功能及颜色测量
-测量方法(Measurement Method): 符合日本工业标准JIS的反射和透射测量法
-支持的标准观察器(Standard Obserber): CIE 2Deg, CIE 10Deg.
-支持的标准光源(Standard Lamp): D65, A, C, E.
-支持的色度(Supported Chromaticity Space): XYZ, Yxy, u'v', L*a*b*, Hunter L*a*b*.
-xy重复性(Repeatability xy): 0.001(SD).
-XY重复性(Repeatability XY): 0.1(SD).
-操作系统: Windows 2000, Windows XP.
　

一般金相显微镜用的FilmExpBasic的简易快速安装
-测量方法(Measurement Method): 反射干涉强度法(反射计Reflectometry)
-测量厚度范围(Measurable Thickness Range): 15nm ~ 100 um.
-测量样品的条件不同测量厚度范围也不会有所不同
-重复性(Repeatability): 测量厚度为460nm的SiO2样品时小于0.5nm.
-测量精度(Accuracy): 测量厚度为460nm的样品时优于1nm.
-可同时测量的最大层数(MeasurableMaximumLayers): 5层 (测量样品的条件不同 可同时测量的最大层数 也不会有所不同)
-可测量的薄膜类型(Measurable Materials): SiO2, Si3N4, a-Si, GaN, ITO, PR, Polymers...
-测量速度(Measurement Speed):0.1~2sec/point
- 光源(Light Source): 卤素灯(420nm~850nm), 紫外线(UV)可选
-最小测量区域的大小(Measurable Minimum Size): 20um x 20um. 最小到 4um x 4um(可选)